W摻雜NiOx薄膜的制備及全固態(tài)電致變色器件的性能
作者：孟凡禹; 劉靜; 汪洪 中國建筑材料科學研究總院; 北京100024
摘要：采用直流反應磁控濺射技術,使用原子比4:1的鎳鎢合金靶,在不同氬氧比條件下制備了W摻雜的NiOx薄膜。利用X射線衍射儀(XRD),掃描電子顯微鏡(SEM),原子力顯微鏡(AFM),分光光度計和光譜橢圓偏振儀(SE)對薄膜進行分析和表征,研究濺射過程中氧分壓對薄膜形貌、結構和光學性能的影響。研究結果表明:顆粒之間相互接觸在薄膜表面形成片狀結構;隨著氧分壓上升,薄膜中的顆粒尺寸減小,結晶程度下降,衍射峰的位置向小角度方向移動;光學透過率和光學帶隙隨氧分壓上升而下降,而折射率和消光系數(shù)則隨氧分壓上升而增大。最優(yōu)工藝條件下制備的電致變色器件結構為FTO/LiyWO3/電解質/W摻雜NiOx/ITO。器件在波長550nm處的光調制幅度為56.3%,著色態(tài)透過率為3.9%,褪色態(tài)透過率為60.2%。
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材料科學與工程學報雜志
材料科學與工程學報雜志， 雙月刊，本刊重視學術導向，堅持科學性、學術性、先進性、創(chuàng)新性，刊載內容涉及的欄目：研究論文、熱點評述等。于1983年經(jīng)新聞總署批準的正規(guī)刊物。
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