摘要：通過在n型碳化硅(SiC)晶圓上用物理氣相沉積法(PVD)和原子層沉積法(ALD)分別沉積Y2O3介質和Al2O3,形成金屬/Al2O3/Y2O3/SiC高k介質堆棧結構MOS電容。X射線光電子能譜(XPS)分析研究Al2O3/Y2O3堆棧結構氧化層介質之間以及氧化層與SiC晶圓之間的相互擴散和反應關系;研究不同金屬電極MOS電容的C-V特性,Ni電極MOS電容具有良好的穩(wěn)定性,對介質層的相對介電常數影響最小,Mg電極MOS電容的理想平帶電壓最小,同時氧化層陷阱密度最小;隨著C-V測試頻率的降低,氧化層電容Cox逐漸增加,Al2O3/Y2O3介質層的相對介電常數逐漸增大,等效氧化層厚度(EOT)減小,平帶電容電壓減小。