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首頁 > 期刊 > 固體電子學(xué)研究與進(jìn)展 > GaN HFET中的能帶峰耗盡 【正文】

GaN HFET中的能帶峰耗盡

作者:薛舫時(shí); 孔月嬋; 陳堂勝 南京電子器件研究所; 微波毫米波單片集成和模塊電路重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 南京210016

摘要:考慮強(qiáng)場(chǎng)峰和耗盡電勢(shì)隨柵壓的變化后,使用新編的場(chǎng)效應(yīng)管能帶計(jì)算軟件計(jì)算了GaN HFET在不同柵、漏電壓下的場(chǎng)效應(yīng)管能帶和漂移及局域電子氣密度,發(fā)現(xiàn)了強(qiáng)場(chǎng)峰中耗盡區(qū)內(nèi)外漂移電子氣的耗盡臺(tái)階和能帶峰臺(tái)階以及耗盡區(qū)外的局域電子氣峰。研究了不同柵、漏電壓下的場(chǎng)效應(yīng)管能帶的耗盡過程,發(fā)現(xiàn)耗盡區(qū)接觸能帶峰后的巨大能帶畸變。提出了能帶峰耗盡的新概念。運(yùn)用應(yīng)力偏置后測(cè)試偏置下局域電子氣勢(shì)壘和非穩(wěn)態(tài)異質(zhì)結(jié)的變化及局域電子氣行為確立了應(yīng)力偏置中內(nèi)溝道夾斷和外溝道強(qiáng)場(chǎng)峰的關(guān)聯(lián)。通過施加應(yīng)力偏置后在測(cè)試偏置下的非穩(wěn)態(tài)強(qiáng)場(chǎng)峰充電過程中兩種電子氣的不同輸運(yùn)行為解釋了動(dòng)態(tài)溝道電流中的快峰和慢峰,建立起基于場(chǎng)效應(yīng)管能帶理論的新的動(dòng)態(tài)電流崩塌模型。

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固體電子學(xué)研究與進(jìn)展雜志

固體電子學(xué)研究與進(jìn)展雜志, 雙月刊,本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向,堅(jiān)持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進(jìn)性、創(chuàng)新性,刊載內(nèi)容涉及的欄目:三維集成射頻微系統(tǒng)(專欄)、器件物理與器件模擬、射頻微波與太赫茲、光電子學(xué)、硅微電子學(xué)、材料與工藝、研究簡(jiǎn)訊等。于1981年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。

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