氟化鈣晶體深紫外激光輻照損傷特性研究進(jìn)展
摘要：半導(dǎo)體光刻技術(shù)帶動(dòng)著光源逐步向短波輻射方向發(fā)展,以KrF-248nm、ArF-193nm光源為代表的準(zhǔn)分子激光光刻光源逐步取代了以往基于汞燈的光刻光源,成為當(dāng)前半導(dǎo)體光刻技術(shù)發(fā)展的主流光源。目前應(yīng)用于光刻光源的光學(xué)元件主要以在深紫外波段具有優(yōu)異傳輸特性的氟化鈣(CaF2)材料為主。針對(duì)光源研發(fā)過(guò)程中涉及的光學(xué)元件與激光相互作用時(shí)會(huì)發(fā)生損傷的問(wèn)題,從CaF2材料自身的物化特性、激光輻射特性以及激光與材料相互作用產(chǎn)生損傷的機(jī)理三個(gè)方面,綜合分析了CaF2材料抗紫外激光研究的發(fā)展情況,比較了不同應(yīng)用背景下CaF2材料的激光損傷特性,總結(jié)歸納了提高光學(xué)元件激光損傷閾值的措施和方法。
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激光與光電子學(xué)進(jìn)展雜志
激光與光電子學(xué)進(jìn)展雜志， 月刊，本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向，堅(jiān)持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進(jìn)性、創(chuàng)新性，刊載內(nèi)容涉及的欄目：綜述、激光器與激光光學(xué)、光纖光學(xué)與光通信、光學(xué)設(shè)計(jì)與制造、材料、圖像處理、成像系統(tǒng)、光學(xué)器件、遙感與傳感器、大氣光學(xué)與海洋光學(xué)、衍射與光柵、原子與分子物理學(xué)、探測(cè)器、薄膜、超快光學(xué)等。于1964年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。
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