摘要:介紹了色分離光柵的設(shè)計(jì)原理,并對其制作工藝進(jìn)行了研究。用套刻法以能量為450 eV、束流密度為80 mA/cm2、30°入射角的離子束對100 mm×100 mm石英基片進(jìn)行刻蝕,制作出了周期為300μm色分離光柵。實(shí)驗(yàn)測得零級次上3ω(351 nm)光的歸一化衍射效率達(dá)到了91.9%。結(jié)果表明,這套工藝方法在制作高衍射效率的CSG是可行的,并且具有刻蝕圖形分辨率高、側(cè)壁較陡等優(yōu)點(diǎn),為進(jìn)一步制作高衍射效率的色分離光柵提供了參考。
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微細(xì)加工技術(shù)雜志, 雙月刊,本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向,堅(jiān)持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進(jìn)性、創(chuàng)新性,刊載內(nèi)容涉及的欄目:綜述、電子束技術(shù)、離子束技術(shù)、光子束技術(shù)、薄膜技術(shù)、微機(jī)械加工技術(shù)、納米技術(shù)等。于1983年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。