摘要：通過(guò)磁控濺射方法制備Cu-Mg合金薄膜,隨后進(jìn)行去合金化得到納米多孔銅膜。研究了Ar流量和濺射功率對(duì)合金膜表面質(zhì)量和厚度的影響,分析了鹽酸濃度對(duì)納米孔形成的影響。利用結(jié)晶紫分子來(lái)表征納米多孔銅的表面增強(qiáng)拉曼散射性能。結(jié)果表明,磁控濺射參數(shù)設(shè)置Ar流量為45 mL/min,且功率為70 W時(shí),能夠得到表面平整的Cu28Mg72合金薄膜。經(jīng)1.00 M(mol/L)HCl腐蝕得到的多孔銅的孔最均勻,同時(shí)具有最好的拉曼信號(hào)增強(qiáng)效果。