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首頁 > 期刊 > 中國檢驗檢測 > ICP-MS檢測多晶硅表金屬雜質的研究 【正文】

ICP-MS檢測多晶硅表金屬雜質的研究

作者:張嘯虎 多晶硅國家工程實驗室分析測試中心; 洛陽471000

摘要:應用電感耦合等離子體質譜儀(ICP-MS),對多晶硅料塊表面金屬雜質Fe,Cr,Ni,Cu,Zn,Na,元素進行檢測。本文研究了樣品的處理方法,確定了適宜的實驗條件,使用該方法能準確、快速的檢測多晶硅表面的金屬雜質含量,適用于商用實驗室中的檢測,符合企業(yè)中工業(yè)化的檢測需求。其檢測方法對多晶硅中的金屬雜質Fe,Cr,Ni,Cu,Zn,Na,元素的檢出限達到0. 01ng/g左右,精密度較好,Fe的加標溶液的回收率為90!109%,滿足痕量雜質檢測的要求。

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中國檢驗檢測雜志

中國檢驗檢測雜志, 雙月刊,本刊重視學術導向,堅持科學性、學術性、先進性、創(chuàng)新性,刊載內容涉及的欄目:政策研究、學術研究、實驗室管理、能力驗證等。于2017年經(jīng)新聞總署批準的正規(guī)刊物。

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