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《Laser & Optoelectronics Progress》雜志影響錄用的因素有哪些?

來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 11:21:33 415人看過

《Laser & Optoelectronics Progress》雜志是一本專注于物理與天體物理領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊,該雜志的錄用率受多種因素影響,想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。

《Laser & Optoelectronics Progress》雜志的錄用率受多種因素影響,具體如下:

年發(fā)文量:《Laser & Optoelectronics Progress》雜志年發(fā)文量為:1004篇。年發(fā)文量較大的期刊,相對而言錄用率會高一些。

質(zhì)量與創(chuàng)新性:論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。

期刊分區(qū):《Laser & Optoelectronics Progress》雜志在中科院的分區(qū)為4區(qū),而在JCR的分區(qū)為Q4。

論文質(zhì)量:包括研究設(shè)計的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。

影響力與排名:《Laser & Optoelectronics Progress》雜志IF影響因子為:0.9。高影響力的期刊通常對論文質(zhì)量要求更高,錄用率相對較低。

審稿流程:嚴(yán)格的多輪審稿流程會篩選掉部分稿件,導(dǎo)致錄用率下降。

投稿數(shù)量:在特定時期內(nèi),若大量研究者集中向某期刊投稿,會導(dǎo)致稿件堆積,錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響,作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點選擇合適的期刊,并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會,投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南,并與雜志社保持良好溝通。

《Laser & Optoelectronics Progress》雜志簡介

中文簡稱:激光與光電子學(xué)進(jìn)展
國際標(biāo)準(zhǔn)簡稱:Laser Optoelectronics Progress
出版商:Universitat zu Koln
出版周期:24 issues/year
出版地區(qū):PEOPLES R CHINA
ISSN:1006-4125
研究方向:Multiple

《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》的核心目標(biāo)是關(guān)注科技發(fā)展的熱點,及時報道高新技術(shù)的前沿進(jìn)展,追蹤科技研發(fā)的最新動態(tài),介紹科學(xué)探索的歷程。它致力于為科研人員、工程師、學(xué)者以及廣大科技愛好者提供一個交流最新科技信息、分享研究成果的平臺。

雜志不僅僅關(guān)注于科技研究的理論層面,它還注重科技產(chǎn)品的展示,匯集時尚科技資訊,讓讀者能夠了解到科技產(chǎn)品的發(fā)展和應(yīng)用情況。這樣的做法有助于科技產(chǎn)品更好地服務(wù)于社會,推動科技與產(chǎn)業(yè)的深度融合。此外,該雜志還積極倡導(dǎo)科學(xué)精神,鼓勵科研人員勇于探索未知,敢于挑戰(zhàn)傳統(tǒng)觀念。它通過展示科學(xué)探索的歷程,激發(fā)讀者對科學(xué)的興趣和熱情,培養(yǎng)科學(xué)素養(yǎng),推動科學(xué)教育的發(fā)展。

在中科院分區(qū)表中,大類學(xué)科為物理與天體物理4區(qū), 小類學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程:電子與電氣4區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū)

名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個類別分為四個區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū)

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