《中國專利與商標》雜志社聯(lián)系地址：北京西城區(qū)樺皮廠胡同2號國際商會大廈16層。

雜志基本信息介紹

主編：莫修

出版地區(qū)：北京

國際刊號：1680-6050

雜志創(chuàng)刊于1985年，

《中國專利與商標》雜志文章特色介紹：

<一>同一頁類列出多個注釋的，應根據(jù)注釋的先后順序編排序號。注釋序號以“①、②”等數(shù)字形式標示在被注釋詞條的右上角。頁末或篇末注釋條目的序號應按照“①、②”等數(shù)字形式與被注釋詞條保持一致。

<二>圖表下標與圖表之間不空行。

<三>本刊實行專家盲審制度，稿件正文中不宜出現(xiàn)任何個人信息。

<四>摘要300字左右，關鍵詞3—5個，標題、摘要、關鍵詞等均無須譯為英文。

<五>凡屬國家、?。ú浚┘壔痦椖康恼撐?，請注明其所屬基金資助項目、項目編號。