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《Journal Of Semiconductor Technology And Science》雜志好發(fā)表嗎?

來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 11:07:12 838人看過

《Journal Of Semiconductor Technology And Science》雜志是一本專注于工程技術(shù)領(lǐng)域的期刊,發(fā)表難度因多種因素而異,以下是具體分析:

《半導(dǎo)體技術(shù)與科學(xué)雜志》的出版旨在為參與集成電路技術(shù)各個方面的研發(fā)人員提供一個論壇,即 VLSI 制造工藝技術(shù)、VLSI 設(shè)備技術(shù)、VLSI 電路設(shè)計以及這種大規(guī)模生產(chǎn)技術(shù)的其他新應(yīng)用。當(dāng) IC 被發(fā)明時,這些人在一個地方一起工作。然而,隨著 IC 領(lǐng)域的擴(kuò)大,我們的個人知識變得越來越狹窄,在技術(shù)社會中產(chǎn)生了不同的分支,這使得整體交流變得更加困難。然而,漁夫總是知道他可以在暖水和冷水交匯的邊界捕獲更多的魚。因此,我們決定倒退,將所有參與 VLSI 技術(shù)的人員聚集在一個地方。

發(fā)表難度

影響因子與分區(qū):《Journal Of Semiconductor Technology And Science》雜志的影響因子為0.5,屬于JCR分區(qū)Q4區(qū),中科院分區(qū)中大類學(xué)科工程技術(shù)為4區(qū), 小類學(xué)科ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程:電子與電氣為4區(qū),較高的影響因子和較好的分區(qū)表明其在學(xué)術(shù)界具有較高的影響力和認(rèn)可度,因此對稿件的質(zhì)量要求也相對較高,發(fā)表難度較大。

歷年IF值(影響因子):

WOS分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 329 / 352

6.7%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 175 / 179

2.5%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 342 / 354

3.53%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 176 / 179

1.96%

名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫,Web of Science包括自然科學(xué)、社會科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息,來自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學(xué)科領(lǐng)域劃分,根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中,最后的劃分結(jié)果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。

審稿周期預(yù)計:平均審稿速度 較慢,6-12周 ,審稿周期也體現(xiàn)了編輯部對稿件質(zhì)量的嚴(yán)格把關(guān)。

發(fā)表建議

提高稿件質(zhì)量:確保研究內(nèi)容具有創(chuàng)新性和學(xué)術(shù)價值,語言表達(dá)清晰準(zhǔn)確,符合雜志工程:電子與電氣的格式和要求。

提前準(zhǔn)備:根據(jù)審稿周期,建議作者提前規(guī)劃好研究和寫作進(jìn)度,以便有足夠的時間進(jìn)行修改和補(bǔ)充。同時,可以關(guān)注《Journal Of Semiconductor Technology And Science》雜志的約稿信息,如果能夠獲得約稿機(jī)會,發(fā)表的可能性會更大。

聲明:以上內(nèi)容來源于互聯(lián)網(wǎng)公開資料,如有不準(zhǔn)確之處,請聯(lián)系我們進(jìn)行修改。

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